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在集成电路制造技术中常用的 PVD方法主要有两种( )。
A、蒸镀
B、扩散
C、溅射
D、离子注入
发布时间:
2025-08-14 05:04:35
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继续教育公需课
推荐参考答案
(
由 专技宝 官方老师解答 )
答案:
AC
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